Материал покрытия PVD
-
![Мишень для распыления 4N ZrO2 с медной задней пластиной]()
Мишень для распыления 4N ZrO2 с медной задней пластинойНаши мишени для распыления диоксида циркония с опорными пластинами изготовлены из материала диоксида циркония высокой-чистоты, надежно прикрепленного к металлической опорной пластине; такая...Подробнее -
![Мишень для распыления ZrC с медной задней пластиной]()
Мишень для распыления ZrC с медной задней пластинойНаши мишени для распыления из карбида циркония (ZrC) с медной подложкой обеспечивают прочное соединение между мишенным материалом ZrC высокой-чистоты и медной подложкой. Такая конструкция...Подробнее -
![Мишень для распыления ZrC, легированного 5ат% Та]()
Мишень для распыления ZrC, легированного 5ат% ТаТочное легирование карбида циркония 5-атомным процентом тантала значительно повышает -температурную стойкость, стойкость к термическому удару и коррозионную стойкость целевого материала. Обладая...Подробнее -
![Мишень для распыления 4N IGZO]()
Мишень для распыления 4N IGZOНаши мишени для распыления 4N IGZO обеспечивают более стабильную и эффективную производительность распыления. Специализированные для-высококлассных дисплеев и полупроводниковых устройств, они...Подробнее -
![Мишень 4N HfO2 с медной задней пластиной]()
Мишень 4N HfO2 с медной задней пластинойВ распылительной мишени 4N HfO₂ с медной подложкой используется материал из оксида гафния чистотой 99,99%. В сочетании с медной подложкой он обеспечивает превосходную теплопроводность и идеально...Подробнее -
![4N HfO2, легированный мишенью с содержанием 2% Ti]()
4N HfO2, легированный мишенью с содержанием 2% TiМишень для распыления HfO₂, легированная 2% Ti-, изготовлена с использованием подложки из оксида гафния высокой-чистоты, точно легированной 2% титана. Характеризуясь однородностью состава и...Подробнее -
![Мишень для распыления 4N HfO2]()
Мишень для распыления 4N HfO2Мишень для распыления диоксида гафния 4N высокой-чистоты (чистота 99,99 %) — подходит для применения в оптических покрытиях, полупроводниках и прецизионной электронике. Имеет высокую плотность,...Подробнее -
![Настраиваемая мишень для распыления углерода 4N]()
Настраиваемая мишень для распыления углерода 4NНаши мишени для распыления углерода 4N высокой-чистоты изготовлены из углеродного материала с чистотой 99,99 % и низким уровнем примесей, что делает их идеальными для применения в полупроводниках,...Подробнее -
![Мишень для распыления B4C]()
Мишень для распыления B4CЭтот продукт, в котором используется сырье из карбида бора высокой-чистоты, отличается исключительной твердостью и высокой термической стабильностью, что делает его идеальным для применения в...Подробнее -
![Изготовленные на заказ мишени для распыления бора]()
Изготовленные на заказ мишени для распыления бораМы поставляем мишени из бора высокой-чистоты и плотности, идеально подходящие для процессов изготовления полупроводников и нанесения покрытий. Мы поддерживаем изготовление по индивидуальному...Подробнее -
![Индивидуальная круглая вольфрамовая мишень 3N5]()
Индивидуальная круглая вольфрамовая мишень 3N5Мы предлагаем изготовленные на заказ круглые вольфрамовые мишени-чистотой 3N5 (99,95%). Изготовленные методом порошковой металлургии, они имеют однородную микроструктуру, высокую плотность, не...Подробнее -
![Индивидуальная мишень для распыления Hf высокой чистоты]()
Индивидуальная мишень для распыления Hf высокой чистотыМы предлагаем изготавливаемые по индивидуальному заказу мишени для распыления гафния высокой-чистоты с чистотой более 99,9 %, однородной плотностью и тонкой микроструктурой. Специально...Подробнее
Мы являемся профессиональными поставщиками материалов для покрытия pvd в Китае, специализируемся на предоставлении высококачественного индивидуального обслуживания. Мы тепло приветствуем вас, чтобы купить материал для покрытия pvd со скидкой на складе здесь и получить бесплатный образец с нашего завода. Для консультации по цене свяжитесь с нами.