Материал покрытия PVD
-
![Мишень для распыления из оксида цинка (ZnO)]()
Мишень для распыления из оксида цинка (ZnO)Мишень для распыления из оксида цинка (ZnO), используемая для магнетронного распыления и физического осаждения из паровой фазы. Доступны различные диаметры, толщины и чистоты для всех основных...Подробнее -
![Мишень для распыления фторида магния (MgF2)]()
Мишень для распыления фторида магния (MgF2)Фторид магния — это белая кристаллическая соль, прозрачная в широком диапазоне длин волн, с коммерческим применением в оптике, которая также используется в космических телескопах. Встречается в...Подробнее -
![Мишень для распыления оксида лития-кобальта (LiCoO2)]()
Мишень для распыления оксида лития-кобальта (LiCoO2)Оксид лития-кобальта представляет собой слоистую структуру, обеспечивающую двухмерный туннель для миграции ионов лития. Распылительная мишень LiCoO2 является прекрасным материалом для изготовления...Подробнее -
![Мишень для распыления из оксида молибдена (MoO3)]()
Мишень для распыления из оксида молибдена (MoO3)Мишень для распыления из оксида молибдена может использоваться в полупроводниках, химическом осаждении из паровой фазы (CVD), физическом осаждении из паровой фазы (PVD) и оптических приложениях....Подробнее -
![Мишень для распыления из оксида магния (MgO)]()
Мишень для распыления из оксида магния (MgO)Оксид магния в распыляемых мишенях в основном используется в высокоскоростном формировании пленок, применении в микроэлектронике и фотоэлектрической промышленности, специфических процессах...Подробнее -
![Мишень для распыления дисульфида молибдена (MoS2)]()
Мишень для распыления дисульфида молибдена (MoS2)MoSi2 — тетрагональная структура. Это промежуточная фаза с самым высоким содержанием кремния в системе бинарных сплавов Mo-Si. Это интерметаллическое соединение Дальтона с фиксированным составом,...Подробнее -
![Мишень для распыления из оксида ниобия (Nb2O5)]()
Мишень для распыления из оксида ниобия (Nb2O5)Наши мишени из оксида ниобия производятся с использованием передовых процессов вакуумного горячего прессования, горячего изостатического прессования, холодного прессования, спекания и термического...Подробнее -
![Мишень для распыления из оксида никеля (NiO)]()
Мишень для распыления из оксида никеля (NiO)Мишень NiO — это материал, используемый в технологиях роста тонких пленок, таких как физическое осаждение из паровой фазы (PVD) и химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Эти технологии играют...Подробнее -
![Мишень для распыления из карбида кремния (SiC)]()
Мишень для распыления из карбида кремния (SiC)В этом разделе подробно рассматриваются основные характеристики мишеней из карбида кремния, от их химических и физических свойств, методов приготовления до всестороннего анализа показателей оценки...Подробнее -
![Мишень для распыления оксида кремния (SiO)]()
Мишень для распыления оксида кремния (SiO)Оксид кремния — неорганическое соединение с химической формулой SiO. При комнатной температуре и давлении представляет собой аморфный порошок от чёрно-коричневого до лёссового цвета.Подробнее -
![Мишень для распыления из оксида алюминия (Al2O3)]()
Мишень для распыления из оксида алюминия (Al2O3)Целевой материал из оксида алюминия, этот керамический материал высокой чистоты и плотности, не только обладает превосходной стабильностью, но и может выдерживать экстремальные температурные...Подробнее -
![Мишень для распыления нитрида алюминия (AlN)]()
Мишень для распыления нитрида алюминия (AlN)Мишень для распыления из нитрида алюминия также можно называть нитридом алюминия высокой чистоты, материалом для осаждения тонких пленок, мишенью для полупроводниковой промышленности, мишенью для...Подробнее
Мы являемся профессиональными поставщиками материалов для покрытия pvd в Китае, специализируемся на предоставлении высококачественного индивидуального обслуживания. Мы тепло приветствуем вас, чтобы купить материал для покрытия pvd со скидкой на складе здесь и получить бесплатный образец с нашего завода. Для консультации по цене свяжитесь с нами.