Описание продукции
Ионная имплантация является очень важной технологией в современном производстве ИС, которая использует ионные имплантеры для легирования полупроводников, т. е. использует вольфрамово-ториевые провода в качестве катодов для испускания электронов для бомбардировки молекул газа, содержащих определенные примесные элементы, в результате чего ионизированные атомы определенных примесей ускоряются электростатическими полями на поверхности кремниевых монокристаллических пластин и в полупроводнике, изменяя проводящие свойства и в конечном итоге формируя транзисторные структуры. Ионный инжектор состоит из газовой системы, вакуумной системы, системы двигателя, системы управления и системы пучка.
Система пучка включает в себя источник ионов, извлекающий электрод, масс-спектрометр, ускоритель на заднем конце, систему нейтрализации заряда, манипулятор пластин и блокиратор пучка. Вольфрамовые устройства, изготовленные из толстых (2~45 мм) вольфрамовых пластин, в основном используются в системе источника ионов полупроводниковых ионных имплантеров для ограничения и экранирования ионизирующих лучей и являются ключевыми компонентами системы источника ионов.
Функции
Чистота молибденового волновода составляет более 99,95%;
Его плотность превышает 10,2 г/см³;
Точная механическая обработка и превосходная шероховатость поверхности;
Молибденовый волновод обладает высокой износостойкостью.
Применение в промышленности
Промышленность полупроводниковых материалов
Морская транспортная отрасль
Оптическая и оптоэлектронная промышленность
Аэрокосмическая промышленность
горячая этикетка : Детали из вольфрама и молибдена для полупроводниковой промышленности, поставщики деталей из вольфрама и молибдена для полупроводниковой промышленности в Китае, завод
