Детали инжектора ионов вольфрама

Детали инжектора ионов вольфрама изготавливаются из чистого вольфрама, имеющего высокую температуру плавления. Ионная имплантация является очень важной технологией в современном производстве интегральных схем, которая использует машину ионной имплантации для достижения легирования полупроводников, т. е. использует вольфрамовую проволоку в качестве катода для испускания электронов для бомбардировки молекул газа, содержащих определенные примесные элементы, в результате чего ионизированные атомы определенных примесей ускоряются электростатическим полем и ударяются о поверхность кремниевой монокристаллической пластины и внутреннюю часть полупроводника, изменяя проводящие свойства и в конечном итоге формируя структуру транзистора.

Ионная имплантация — важный процесс, который широко используется в производстве полупроводниковых приборов, обработке металлов и исследованиях в области материаловедения. Компоненты ионной имплантации часто изготавливаются из TZM, молибдена, вольфрама, поскольку эти материалы могут хорошо работать в суровых условиях.

горячая этикетка : Детали инжектора ионов вольфрама, Китай Поставщики деталей инжектора ионов вольфрама, завод