Вольфрам-титановый сплав — это материал, полученный из переходных металлов вольфрама и титана. Он имеет еще более высокую плотность и чистоту, лучшую устойчивость к коррозии и меньшее объемное расширение, что эффективно снижает образование частиц во время производства, что делает успешным изготовление качественных тонких пленок.
Мишени из вольфрамового-титанового сплава производятся с использованием технологии порошковой металлургии и широко используются в полупроводниках и тонкопленочных солнечных элементах. В полупроводниковых приложениях тонкие пленки WTi с содержанием 10 мас.% служат диффузионными барьерами и адгезионными слоями для отделения слоев металлизации от полупроводников, например, для отделения алюминия от кремния или меди от кремния. Это существенно улучшает функциональность полупроводников в микрочипах. В тонкопленочных солнечных элементах пленки WTi с содержанием 10 мас.% также служат барьерным слоем, предотвращающим диффузию атомов железа из стальной подложки в задний контакт молибдена и полупроводники CIGS. Вольфрам-Мишени из титанового сплава также используются в светодиодах и покрытиях инструментов.
Основной причиной выбора мишеней из вольфрам-титанового сплава в качестве диффузионных барьеров и связующих слоев в новых полупроводниковых чипах является превосходная поверхностная адгезия и теплоотвод сплава, что приводит к созданию продуктов с более высокими общими характеристиками.
Метод подготовки вольфрамовой-титановой мишени
1. Возьмите определенное количество порошка вольфрама и порошка титана и равномерно перемешайте их в инертной атмосфере.
2. С помощью механического пресса или холодного изостатического пресса спрессовать полученную смесь в заготовку.
3. Поместите полученную заготовку в вакуумную спекающую печь для уплотнения и спекания.
4. После охлаждения вольфрамового-титанового материала, спеченного на этапе 3, расплавьте его в не-вакуумной дуговой печи с неплавящимся материалом, чтобы получить изделие.
Преимущества вольфрамовой-титановой мишени
1. Простой производственный процесс и простота в эксплуатации.
2. Используя смесь вольфрам-титанового порошка с последующим прессованием, спеканием и дуговой плавкой, этот процесс эффективно решает проблемы низкой эффективности, однородности материала и содержания примесей, присущие традиционному приготовлению вольфрам-титанового сплава.
Our factory can produce WTi 90/10wt% and WTi 85/15wt% targets, and can also customize targets with special compositions. The actual target density is >99% и средний размер зерна<100μm. With purity up to 4N5 and special annealing treatment, uniform grain size and low gas content, end users can obtain constant etching rates as well as high-purity and uniform thin film coatings during the PVD process.
